بهبود بهینه و توام پروفیل و پایداری ولتاژ

امروزه سیستم های قدرت از پیچیدگی روزافزونی برخوردار شده اند و در این میان پدیده پایداری ولتاژ با پاسخ زمانی نسبتا کند و عواقب بسیار خطرناک آن، محققان و شرکتهای بزرگ تولیدکننده و پشتیبان را بر آن داشته که آن را بطور جدی مورد بررسی قرار دهند. یکی از روشهای بهبود پدیده فوق استفاده از منبع قدرت راکتیو می باشد که علاوه بر اینکه پایداری ولتاژ تاثیر می گذارند مستقیما پروفیل ولتاژ را نیز تحت تاثیر قرار می دهند. در این رساله، تعریف جدیدی از مسئله جایابی بهینه منابع قدرت راکتیو با هدف بهبود توام پروفیل و پایداری ولتاژ ارائه می گردد. از طرفی با توجه به تاثیر مهم محل های نصب ترانسفورمرهای مجهز به تغییر دهنده تپ زیر بار پایداری و پروفیل ولتاژ، در مدل ارائه شده، جایابی بهینه این تجهیزات نیز مورد توجه قرار گرفته است . فاصله نقطه کار سیستم تا ناپایداری ولتاژ به عنوان معیار پایداری استاتیکی ولتاژ مورد استفاده قرار گرفته و از دو روش ضرایب حساسیت و حداقل مقدار استثنایی جهت برآورد آن استفاده می گردد و جهت حل مساله بهینه سازی نیز از روش ژنتیک که قابلیت خوبی جهت حل اینگونه مسائل دارد استفاده شده است . همچنین نرم افزاری با حداکثر قابلیت های نرم افزاری مهم همچون sparsity, optimal ordering تجزیه lu و غیره جهت برآورد معیار پایداری ولتاژ و حل مسئله جایابی بهینه منابع توان راکتیو، تهیه گردیده است .